国林科技：回应投资者关于半导体臭氧发生器纯度及生产要求问题

投资者提问：

美国mks官网上显示其最先进的半导体臭氧发生器产生的臭氧纯度为99.9995％，即6N水准。该产品已用于台积电3nm芯片生产线。请问公司的同类型半导体臭氧发生器的臭氧纯度为多少？是多少N的水准？能否达到同样3nm芯片生产的要求？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。纯度指的是浓度，用mg/L单位来表示，99.9995%属于描述不符。感谢您的关注。