越南首座芯片廠恐難實現2027年試生產目標，與阿斯麥尚未達成協議

10月26日，財聞海外資訊援引路透社報道，越南首座半導體工廠預計難以按計劃在2027年啟動試生產。據知情人士透露，越南軍工電信集團（Viettel）與荷蘭光刻機制造商阿斯麥（ASML.US）就採購芯片製造設備的談判已持續數月，但尚未達成任何協議。

今年1月，Viettel在河內郊區為該項目舉行了奠基儀式，但路透社上周實地探訪發現，廠址仍雜草叢生，無任何建築施工跡象。Planet Labs（PL.US） PBC及空客公司（Airbus）的衞星圖像也證實，該地塊至今未有建築物落成。

據一位直接瞭解項目內情的人士稱，由於Viettel缺乏芯片工廠建設經驗，加之政府撥款審批流程緩慢，2027年的目標大概率無法實現。該項目雖在政府推動下持續推進，但具體時間表尚不明確。Viettel方面向路透社聲明稱項目「正按既定計劃和進度推進」，將分階段實施，並承諾適時披露更多信息。

據悉，Viettel與ASML的談判涉及購買深紫外光刻機（DUV），該設備用於在硅晶圓上印製電路圖案。目前尚不清楚談判未果的原因，以及具體洽談的DUV機型——這將決定該交易是否受荷蘭出口管制約束，並影響潛在成本估算。越南當局此前估計該廠投資規模約13億美元（約合人民幣92.7億元）。

ASML本月表示，受人工智能熱潮帶動，其先進設備未來兩年可能無法完全滿足市場需求，但舊一代設備的供應約束預計較輕。ASML在極紫外光刻機（EUV）領域處於壟斷地位，同時也是浸沒式DUV系統的第一大供應商，后者市場面臨日本尼康（Nikon，7731.T）的競爭。

Viettel在1月的演示材料中曾計劃採用32納米工藝生產芯片，這一起點對芯片製造新手而言頗為激進。相比之下，塔塔電子（Tata Electronics）與臺灣力積電（PSMC，6770.TW）合作、投資110億美元（約合人民幣784.5億元）的古吉拉特邦項目，計劃先從55納米和90納米工藝起步，再逐步升級至28納米。Viettel隨后從其官網撤下了32納米的表述，亦未披露是否與成熟芯片製造商建立技術合作。

據行業人士透露，越南政府吸引外資建廠的努力迄今未果。不過，該國在資本投入較低的半導體封裝測試（ATP）領域正快速崛起，英特爾（INTC.US）、安靠科技（Amkor Technology，AMKR.O）、韓美半導體（Hana Micron，067310.KQ）均在越南設有大型ATP工廠。此外，Coherent（COHR.US）及VDL Enabling Technologies Group等ASML供應商亦在越南佈局業務。