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2026-05-31 22:28
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(來源:快科技)
快科技5月31日消息,據媒體報道,臺積電近日在公開場合表示,從智能手機制造商到AI數據中心運營商,客户越來越重視能夠最大限度降低額外能耗的性能提升。
這一變化也反映在臺積電的製程技術規劃中。預計即將到來的A14工藝相比N2工藝,性能可提升20%以上,同時功耗降低30%。
A14將採用第二代GAA晶體管,並藉助NanoFlex Pro技術進一步提高設計靈活性。該工藝預計於2027年末進行試生產,2028年實現量產。
不過,首發的A14製程工藝不支持"超級電軌"(Super Power Rail,SPR)背面供電架構。臺積電計劃在2029年推出加入背面供電的版本,以滿足高性能客户端和數據中心應用的需求。
儘管晶體管密度提升仍是臺積電發展路線圖的核心,但先進封裝、芯片堆棧以及光子技術等在推動效率提升過程中的重要性日益凸顯。
從臺積電規劃的A13和A12工藝來看,提升能效已成為下一代AI芯片比持續縮小晶體管尺寸更為緊迫的優先事項。