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2026-05-25 19:18
鎧俠控股公佈截至 2026 年 3 月的財年業績,營收創下歷史新高。2026 年 1 至 3 月季度銷售額同比大增 188.9%,達到 1.029 萬億日元;營業利潤暴漲 15.9 倍,淨利潤更是飆升 30.8 倍。
受業績提振,鎧俠股價創下上市以來歷史峰值,市值一度突破 8 萬億日元,排名躍升至日本企業市值第四位。業內媒體紛紛看好,將其視作日本存儲產業重回興盛的標誌。但面對此番歡慶氛圍,筆者卻心生顧慮。放眼全球存儲市場,鎧俠目前僅佔據 4.4% 的份額,行業競爭力並不突出。
與此同時,中東局勢持續惡化,產業鏈供應鏈隨時存在斷裂風險。潛在隱患包含:干法刻蝕工藝必備的氦氣供應中斷、生產設備運轉依託的石腦油相關零部件斷供,以及光刻膠原料供給受阻。一旦風險爆發,鎧俠工廠或將被迫停產,企業管理層對此危機的應對籌備情況,仍有待考量。
首先來看 2026 年 3 月收官的 2025 財年第四季度經營數據。
銷售額:10290 億日元,同比增幅 188.9%
非公認會計准則營業利潤:5991 億日元,利潤率 59.7%,同比增長 15.9 倍
非公認會計准則淨利潤:4099 億日元,利潤率 40.9%,同比增長 30.8 倍
圖1:鎧俠2025財年(截至2026年3月)第四季度(2026年1月至3月)業績。
對比 2019 年四季度至今的季度經營走勢,2025 年一季度至 2026 年一季度,企業營收、利潤均實現跨越式增長,數據表現十分亮眼。
圖2.鎧俠季度銷售額、營業利潤和淨利潤(2026年4月至6月預測)。
這里簡單説明非公認會計准則統計口徑,該覈算方式會剔除股權激勵支出、業務重組費用、併購相關開銷等一次性非經常性收支,能夠直觀體現企業核心主業的穩定盈利水平,眾多半導體企業均採用此項統計標準。不過各家調整統計的項目存在差異,橫向對比企業業績時需要審慎參考。
迴歸鎧俠 2026 年一季度亮眼業績,企業內部人員普遍因營收、股價大漲倍感振奮,但客觀剖析業績成因,便能發現其中問題。
利潤大幅攀升,並非源於產品出貨規模擴張,核心原因是 NAND 晶圓現貨價格大幅上漲。價格從 2025 年 3 月的 2.76 美元,漲到 2026 年 3 月的 21.07 美元,漲幅接近 7.6 倍。反觀產品出貨量,本季度相較上一季度反而下滑約一成。
圖3.DRAM現貨價格和NAND晶圓現貨價格(截至2026年5月19日)。
值得注意的是,即便出貨量減少 10%,企業非公認會計准則營業利潤率依舊從上個季度的 26.6% 翻倍至 59.7%。這份盈利增長並非依靠自身產品競爭力、銷量提升實現,完全是搭乘存儲價格上漲的行業風口,收穫短期紅利。
除此之外,利潤同比數十倍激增的表象,也依託於去年同期極低的業績基數。2025 年一季度企業營業利潤僅 371 億日元,淨利潤僅有 203 億日元,基數偏低才造就瞭如今誇張的增長倍數,不必被大幅增長的標題數據誤導判斷。
梳理鎧俠在全球 NAND 閃存市場的行業地位,2026 年一季度各廠商預估銷售額數據如下:三星 105 億美元,SK 集團(含收購的 Solidigm)97 億美元,鎧俠 58 億美元,美光 55 億美元,西部數據 53 億美元。
圖4.NAND閃存製造商銷售額(2026年第一季度採用最大預測值)
雖然三星和SK集團這兩家韓國製造商的銷售額遙遙領先,約為100億美元,但鎧俠以及美光、閃迪銷售額仍然在50億美元左右,和頭部企業差距顯著。
圖5.NAND閃存廠商的銷售份額(2026年第一季度數據採用最大預測值計算)。
從市場份額維度來看,2026 年一季度預估佔比分別為:三星 25.1%,SK 集團 23.2%,鎧俠 13.9%,美光 12.7%,西部數據 12.0%。
曾經東芝存儲時期,企業 NAND 市場佔有率最高可達 35%,與三星不分伯仲,如今份額縮水至 13.8%。和韓國兩大龍頭企業的差距不斷拉大,同時身后美光、西部數據緊隨其后,份額差距僅1至2個百分點。
作為 NAND 閃存技術發源地的日本,本土存儲龍頭如今已然面臨被其他企業趕超的風險。
總而言之,儘管鎧俠在2026年第一季度的業績較去年同期表現強勁,但這主要是由於NAND晶圓現貨價格飆升,以及2025年第一季度業績極其糟糕。此外,與三星和SK集團等競爭對手相比,鎧俠的NAND銷量僅略高於其一半,其市場份額也從曾經的35%左右下降至目前的13.8%。
鑑於上述情況,對「創紀錄的利潤和創紀錄的股價」如此欣喜是否合適?此外,鎧俠目前缺乏DRAM業務,而DRAM業務的增長速度遠超NAND閃存。雪上加霜的是,由於中東局勢惡化,鎧俠似乎正面臨氦氣供應中斷的危機;石腦油短缺導致包括干法刻蝕設備在內的所有生產設備耗材短缺;以及光刻膠可能耗盡。這些問題將在后續章節中詳細討論。
鎧俠業務體系單一,僅深耕 NAND 閃存賽道,並未涉足 DRAM 領域。而當下人工智能產業蓬勃發展,DRAM 成為存儲行業增長核心板塊,市場擴容速度遠超 NAND 閃存。
2025 年一季度全球 NAND 閃存市場規模為 120.2 億美元,2026 年一季度增至 338 億美元,規模擴張至原先 2.8 倍;同期 DRAM 市場從 270.1 億美元增長至 1045 億美元,增幅達到 3.9 倍。現階段 DRAM 整體市場體量已是 NAND 閃存的三倍,人工智能產業帶來的行業紅利,大多流向 DRAM 廠商,尤其主營高帶寬內存 HBM 的企業獲益最多。
圖6.全球DRAM和NAND市場(TrendForce預測至2026年第一季度)
2026 年一季度各大 DRAM 廠商預估銷售額:三星 380 億美元,SK 海力士 340 億美元,美光 235 億美元。
圖7.DRAM廠商銷售額數據(採用2026年第一季度最高預測值)。
就銷售份額而言,三星曾一度將榜首位置讓給憑藉8-12層堆疊寬帶內存(HBM)表現優異的SK海力士,但如今三星再次超越SK海力士,以36.4%的市場份額重奪第一。與此同時,被三星超越的SK海力士則落后3.9個百分點,市場份額為32.5%。美光以22.5%的市場份額位列第三(圖8)。
圖8.DRAM廠商的銷售份額(2026年第一季度數據採用最大預測值計算)。
這三家公司合計佔據了91.4%的市場份額,幾乎壟斷了DRAM市場。鎧俠(Kioxia)完全被排除在外。鎧俠甚至連DRAM市場——人工智能熱潮的核心,都未能涉足。
現在,讓我們來看看內存製造商的總銷售額(市場份額),包括 DRAM 和 NAND。首先,就DRAM和NAND的總銷售額而言,三星為485億美元,SK海力士為437億美元,美光為290億美元,鎧俠為58億美元,閃迪為53億美元(圖9)。鎧俠和閃迪僅生產NAND閃存,其銷售額佔韓國製造商總銷售額的不到10%。
圖9.存儲器製造商銷售額(DRAM+NAND總計)
接下來,從DRAM和NAND的合併銷售份額來看,三星佔35.1%,SK海力士佔31.6%,美光佔21.0%,而鎧俠僅佔4.4%,閃迪僅佔3.8%(圖10)。鎧俠的份額僅為美光的五分之一左右,三星的八分之一左右。
圖10.存儲器製造商(DRAM+NAND)的銷售份額
縱觀長期發展走勢,鎧俠整體存儲市場份額從 2009 年約 13% 持續走低,如今跌至歷史低位。人工智能時代到來后,單一依賴 NAND 閃存的經營模式,潛藏的結構性弊端徹底暴露。拋開日本市值第四的亮眼頭銜,從全球存儲行業整體格局來看,鎧俠如今已是行業中小體量企業,綜合競爭力不容樂觀。
就在鎧俠(Kioxia)慶祝其「創紀錄的利潤」併成為「日本市值第四大公司」之際,一場威脅到半導體工廠運營根基的供應鏈危機正從中東悄然逼近。
(1)氦氣供應中斷的風險
氦氣是半導體制造中必不可少的物質,用於晶圓冷卻、泄漏測試,以及作為各種工藝氣體的稀釋劑和載體。它是一種不可替代的戰略物資,一旦供應中斷,半導體工廠將立即停產。具體來説,在3D NAND領域,據說約70%的資本投資都投入到了干法刻蝕設備中,這意味着需要大量干法刻蝕機的運轉。氦氣是這些機器運轉的必需燃料,一旦氦氣庫存耗盡,3D NAND生產線就會停產。
日本的氦氣全部依賴進口,其中41%來自卡塔爾。然而,由於下文所述的原因,卡塔爾的氦氣已從市場上消失。這對鎧俠公司造成了極其重大的影響。鎧俠位於四日市和北上兩地的工廠每天都消耗大量的氦氣。如果不能確保長期合同和多家供應商的穩定供應,氦氣耗盡可能直接導致工廠停產。鎧俠絕不能掉以輕心。
(2)干法刻蝕設備零部件短缺,70%的3D NAND投資遭受重創
在3D NAND製造中,干法刻蝕設備約佔總投資的70%。3D NAND目前採用超過300層的堆疊結構,其核心技術在於「高深寬比刻蝕」,即垂直鑽取極深的孔。這正是Lam Research、東京電子和應用材料等公司生產的干法刻蝕設備的作用所在。
這些干法蝕刻機的許多關鍵部件(腔室部件、特殊密封材料、彈性體、氟樹脂部件等)均由石腦油衍生的石油化工產品製成。如果中東局勢惡化,原油和石腦油價格飆升,或者來自中東的石腦油和石油化工產品運輸中斷,干法蝕刻機部件的供應將立即面臨緊張局面。
不僅新設備的交付會延誤,現有設備耗材更換的延誤也會導致正在運行的蝕刻設備停機。對於一家3D NAND工廠來説,這無疑是致命的。如果佔資本投資70%的設備停止運行,那麼所有投資都將付諸東流。
此外,石腦油衍生的組分和材料不僅用於干法刻蝕設備,還用於所有制造設備,包括曝光設備、塗布/顯影設備、各種膠片沉積設備、各種清洗設備和各種檢測設備。因此,必須指出的是,石腦油衍生的組分和材料的中斷將是一個重大問題,會危及所有制造設備的穩定運行。
(3)光刻膠損耗風險
光刻膠的許多原材料,包括樹脂、感光劑和溶劑,都源自石腦油基石油化工產品。如果來自中東的原材料供應中斷,JSR、東京櫻化化學、信越化學、富士膠片和住友化學等光刻膠生產商的生產也將受到影響。
光刻膠是一種易損耗材料,保質期有限,難以長期儲存。即使供應中斷僅幾周,也可能導致半導體工廠的光刻工藝停工。
(4)沒有跡象表明霍爾木茲海峽的封鎖將會解除。
2026年3月,伊朗襲擊卡塔爾液化天然氣設施后,作為液化天然氣生產副產品的卡塔爾氦氣從市場上消失。由於卡塔爾氦氣約佔全球市場份額的30%,此次事件導致全球氦氣市場整體出現相應萎縮。
此外,由於美伊衝突仍未見結束跡象,霍爾木茲海峽實際上仍處於封鎖狀態。2026年5月14日,中美兩國領導人在中國舉行峰會,發表聯合聲明稱不應封鎖霍爾木茲海峽,但伊朗對此並不認同,霍爾木茲海峽的封鎖仍在繼續。這種情況似乎很可能會持續很長時間。
此外,霍爾木茲海峽封鎖的時間越長,所有制造設備(包括干法刻蝕設備)所需的石腦油衍生消耗品就會越消耗殆盡,3D NAND 製造所需的光刻膠的採購也會變得困難。
如果氦氣供應耗盡,所有生產設備(包括干法刻蝕系統)的耗材以及光刻膠的供應也隨之中斷,鎧俠位於四日市和北上兩地的工廠將立即停產。這並非危言聳聽,而是供應鏈結構中殘酷的現實。
面對當下局勢,鎧俠不能沉醉於高額利潤與市值排名,管理層需迅速出臺應對方案。
首先,要確保氦氣的長期供應。這包括使氦氣來源多樣化,例如美國和阿爾及利亞的氦氣,加快簽訂長期合同,將內部庫存增加一倍,並立即投資建設氦氣回收和再利用設施。
其次,對干法刻蝕設備零部件進行戰略性儲備至關重要。應與 Lam Research 和東京電子等設備製造商合作,確保關鍵耗材至少六個月的戰略庫存。如果佔 3D NAND 投資 70% 的設備停止運行,所有投資都將付諸東流。毋庸置疑,對於除干法刻蝕設備以外的其他製造設備,也必須採取類似的措施。
第三,增加光刻膠的安全庫存至關重要。與光刻膠生產商密切信息共享、確保原材料和感光劑的替代來源,以及儘可能增加庫存,都是當務之急。
第四,對整個供應鏈進行地緣政治風險評估。應立即在首席執行官的直接領導下建立一套系統,每周(甚至每天)監測地緣政治風險(包括中東局勢)對半導體制造流程各個環節的影響。
第五,要對股東和投資者坦誠披露信息。與其一味吹噓「創紀錄的利潤」,不如坦率地披露即將面臨的供應鏈風險以及正在採取的應對措施,這纔是對待長期股東的真誠之舉。現在絕非沉迷於短期股價飆升的時候。
鎧俠市值位列日本企業第四,也表明日本產業界對鎧俠寄予厚望。作為日本存儲器產業的最后堡壘,如果鎧俠被迫關閉工廠,其影響不僅限於公司業績下滑,更將對日本半導體產業乃至整體經濟安全造成沉重打擊。
短期盈利增長已然成為過往,管理層應當放下成績帶來的優越感,下到生產車間,仔細覈對氦氣、干法刻蝕設備耗材和光刻膠的庫存清單。中東危機發展無法預判,企業沒有多余時間觀望等待。亮眼財報無法衡量企業真正實力,從容應對危機纔是企業立足根本。身負本土存儲產業發展重任,鎧俠需即刻行動,守住生產運轉底線,直面行業多重考驗。
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本文來自微信公眾號 「半導體產業縱橫」(ID:ICViews),作者:湯之上隆,36氪經授權發佈。