SK海力士550多億採購EUV光刻機

（來源：半導體前沿）

3月24日消息，SK海力士計劃在未來兩年內，向ASML採購價值約80億美元的極紫外線（EUV）光刻機。這家韓國存儲芯片製造商正加緊擴充產能，以應對激增的需求。

該公司在一份文件中説明，這筆交易涵蓋設備成本、安裝費用和改裝費用。採購的目的是爲了獲得支持下一代工藝大規模生產的EUV設備。此外，款項將在設備交付后分期支付。

根據估算，按每台EUV光刻機約5000億韓元計，這家芯片製造商到2027年底將收到至多20台設備。需要指出的是，此次訂購的並非阿斯麥最新型號的EUV設備。

去年，SK海力士部署了一臺阿斯麥的高數值孔徑極紫外線光刻機，其價格遠高於普通的EUV光刻機。

2025年，阿斯麥的積壓訂單額達388億歐元，超過其2026年的預計總銷售額，其中EUV系統佔總積壓訂單的65%。該公司表示，訂單增加是由於數據中心和AI基礎設施的持續建設，帶動了對芯片需求的增長。

SK海力士尚未公佈2026年的資本支出，但其高管最近暗示，支出將同比大幅增加。同時，該公司計劃將資本支出與營收比維持在35%左右的中等水平。其2025年的資本支出為29萬億韓元。

SK海力士的競爭對手三星表示，2026年的資本支出將增加約22%，達到110萬億韓元，其中預計約90%將投向其芯片部門——設備解決方案事業部。SK海力士、三星和美光佔據了全球存儲芯片銷售的絕大部分份額。

來源：官方媒體/網絡新聞

—論壇信息—

名稱：第3屆光掩模與光刻膠技術論壇

時間：2026年4月24日

地點：上海

主辦方：亞化諮詢

—會議背景—

隨着半導體工藝節點向2nm及以下推進，下一代光刻技術已成為行業焦點。主要方向包括高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術旨在提升分辨率、降低成本並提高產量。2026年，高NA EUV已進入高容量製造階段，而NIL和X射線光刻作為潛在顛覆者，正加速研發。

進入2026年，中國對高端光掩模的需求持續強勁增長，但技術研發、生產能力及產業鏈整合方面仍面臨高成本、技術複雜性和供應鏈依賴等諸多挑戰。全球半導體光掩模版市場在2018年至2024年間從40.4億美元增長至51億美元，年複合增長率達4.0%。預計到2030年，該市場規模將進一步擴大至約80億美元。亞化諮詢研究認為我國2025年第三方掩模版市場規模佔比為70%左右，預計2030年中國掩模版市場規模有望達到120億元。

全球光掩模版市場主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企業主導，市場佔有率超過70%。而在中國市場，路維光電、清溢光電、龍圖光罩等本土企業正在不斷提升其市場競爭力，並在國產化替代方面取得突破。

亞化諮詢預計2026年市場規模有望達到100億元。在ArF光刻膠領域，國內廠商正在加快研發進程，並取得了核心突破，如南大光電實現ArF光刻膠量產。國內一些光刻膠龍頭企業如上海新陽、南大光電、容大感光、廣信材料、晶瑞電材等，在光刻膠的研發和生產方面取得了顯著進展。據亞化諮詢最新行業調研，國內領先的光刻膠新鋭企業還包括珠海基石(2022年成立)、國科天驥(2019年成立)等。國內光掩模與光刻膠產業發展正在提速，技術進步成為產業發展的重要推動力。

第3屆光掩模與光刻膠技術論壇將於2026年4月24日在上海召開。本次論壇由亞化諮詢主辦。此次會議將匯聚行業的領軍企業、機構的專家，探討下一代光刻技術發展方向，中國光掩模版與光刻膠產業的技術進展與應用，市場機遇與挑戰，和產業發展前景。

—會議主題—