普達特科技(00650)一臺12英吋LPCVD爐管設備成功通過客户驗收

智通財經APP訊，普達特科技(00650)公佈，公司一臺12英吋LPCVD爐管設備成功通過客户驗收，該設備應用於LP-SiN薄膜沉積工藝。此外，另一臺12英吋ALD爐管設備在客户端處於驗證過程中，該設備應用於ALD-SiN╱ALD-SiCN薄膜沉積工藝，兼容Thermal╱Plasma模式。

公司先進半導體爐管設備產品線，擁有Galilee-LP與Galilee-ALD兩大設備平臺，致力於服務12英吋邏輯製程、DRAM、3DNAND領域，應用覆蓋65nm~7nm先進節點的關鍵薄膜沉積工藝，可沉積SiN、Poly、TEOS等多種系列膜層材料，該類設備市場主要由海外供應商佔據，國產化率極低。公司的該等設備可實現更高的填充深寬比、均勻性、臺階覆蓋率與更低的污染，在先進性能指標達到國際標準的同時，擁有更高的批次生產效率，且具備多種工藝選擇的兼容性。特別地，在先進應用開發方面，公司已完成開發用於14/7nm節點的Low-KALDSiOCN爐管設備，用於滿足大規模集成電路對高性能絕緣層的需求，目前該設備仍由海外設備商壟斷。

此外，公司半導體單片清洗設備亦持續擴大客户基礎與量產經驗。自2025年10月至今，已有五臺6至12英吋CUBE單片清洗設備成功於多家高質量客户處通過驗收，應用於SiC╱功率器件╱數模混合芯片等領域，其中兩臺設備為重複訂單。該設備針對背面清洗與蝕刻工藝，具備超薄晶圓的處理能力、業界領先的伯努利傳輸與晶圓邊緣管控技術，同時通過架構創新，為客户提供行業領先的生產力。據董事會經作出一切合理查詢后所深知、盡悉及確信，於本公告日期，上述客户及其最終實益擁有人為獨立於公司及其關聯人士的第三方。

未來，公司將繼續完成半導體先進爐管設備與清洗設備的交付與驗收，持續擴大高質量客户基礎，並充分發揮公司技術優勢，推動先進半導體設備國產化取得進一步突破。