臺積電擬將熊本二廠主產工藝升級至3nm

（來源：SEMI）

據日媒報道，臺積電調整在日本熊本興建廠房的計劃，最新目標在該廠房大規模生產先進的3nm芯片，總投資額也由原計劃122億美元增加至170億美元。

據瞭解，臺積電原計劃在熊本二廠導入6nm和7nm製程技術。

對此，有外媒證實，臺積電首席執行官魏哲家確實透露了這一計劃，稱正規劃在日本第二晶圓廠採用3nm工藝進行生產，但對於上述投資金額未予置評。

日媒在報道中還稱，日本政府已對臺積電在熊本擴建產能提供補貼，目前亦正在考慮為這項新的投資計劃提供額外支持。