美圖吳欣鴻迴應大模型競爭：垂直應用好比專業工具 美圖應用數據仍快速增長

　　新浪科技訊 2月5日午間消息，大模型吞噬應用的輿論引發市場擔憂，AI應用板塊集體受挫。日前，在公司年會上，美圖公司CEO吳欣鴻談及模型與應用之爭。他透露，即便在Nano Banana發佈后，美圖的應用數據依然在快速增長，通用大模型和應用之間有協同效應。

　　吳欣鴻坦言，通用大模型「無所不能」，留給應用層的空間已所剩無幾，但與此同時，通用大模型在特定垂直場景下的效率並沒有很高。他把大模型比喻為「瑞士軍刀」，能勝任通用需求和日常任務，而垂直應用就好比剪刀、美工刀、水果刀、指甲剪等專業工具，滿足不同場景下的特定需求。

　　在吳欣鴻看來，應用開發者在每個時代階段都有空間，關鍵在於對高價值垂直場景的深度挖掘。這類場景普遍存在非常剛性的需求和成本高、效率低的問題，客户願意為此付費，服務后也能創造出高彈性的增長空間。而應用與大模型的競爭壁壘，關鍵在於能否拿到「這個垂直場景我最專業」的心智，解決最后一公里與長尾需求。

　　在內部分享中，吳欣鴻也明確，美圖正致力於成為一個不斷產生優質影像應用的平臺，打造更多垂直場景的影像產品。