阿斯麥CEO出主意：中國不可能接受被「卡脖子」，不如讓其保持依賴

【文/觀察者網 阮佳琪】

在先進芯片製造領域，最關鍵的設備當屬將芯片圖案打印到硅晶圓上的極紫外（EUV）光刻機。荷蘭公司阿斯麥（ASML）目前是EUV光刻機的全球唯一生產商，其單臺光刻機成本高達數億美元。

當地時間12月12日，美國彭博社發佈對阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）的專訪。報道指出，阿斯麥雖受益於AI熱潮帶動的半導體行業發展，業績持續走高，但除了要應對市場波動與投資不確定性，還需直面複雜地緣政治環境帶來的多重挑戰。

近年來，美國持續向荷蘭施壓，要求限制阿斯麥對華出售先進芯片製造設備。報道提到，隨着大力發展本土芯片產業，中國大陸已於去年成為阿斯麥的最大市場。然而受美方禁令影響，阿斯麥如今被禁止向中國出口所有EUV設備及最先進的深紫外（DUV）光刻設備。

在專訪中，去年接任CEO一職的富凱重申其觀點，即「應向中國適度輸出技術以防其自主研發形成競爭力」。他進一步宣稱，在對華技術出口限制問題上，西方需要找到一個微妙的平衡點。

「中國絕不會接受在技術方面被‘卡脖子’的處境，」他解釋道，「如果你是一個擁有14億人口的大國，就必然要謀求技術進步，這是不爭的事實。」

阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱（左）。彭博社視頻截圖

富凱出主意稱，西方可以通過拒絕向中國提供「最新和最好的產品」，以維持中方對西方技術的依賴，同時拖慢中國自主技術進步的速度。

據他透露，目前阿斯麥對華出口的設備，比最新的高數值孔徑光刻技術整整落后了八代，技術水平相當於該公司2013、2014年銷往西方客户的產品，技術差距超過十年。

「但問題的關鍵在於，我們要把這種技術差距拉大到何種程度？是讓中國落后5年、10年，還是15年？」富凱繼而擔憂稱，如果西方過度收緊限制，將中國逼至絕境，迫使中方別無選擇、只能徹底擺脫對西方技術的依賴，反而會倒逼中國決心自主研發替代產品。從長遠來看，這將導致西方徹底失去這一龐大市場。

「中國已經在很多領域實現自主研發了，假以時日，他們甚至可能反過來向我們出口這些產品。」他補充道。

富凱聲稱，關鍵爭論點不該是「是否要對華限制」，而是思考「西方希望中國落后到何種程度」。他宣稱，西方必須在「遏制手段、技術代差」和「由此引發的后果」之間，找到一個所謂「恰當」的平衡點。

彭博社在報道中指出，儘管目前阿斯麥在光刻領域佔據壟斷地位，但其未來發展仍面臨挑戰。舉例而言，中國上海微電子裝備的設備雖比阿斯麥落后10至15年，但該公司正在政府支持下大力追趕光刻技術；硅谷風投大佬彼得·蒂爾（Peter Thiel）支持的舊金山初創企業Substrate，也計劃利用新型激光技術挑戰阿斯麥的市場地位，只是其技術距離量產仍需數年時間。

採訪接近尾聲時，富凱仍對自身技術優勢抱有信心。他樂觀表示，「光刻技術仍然很難被完全替代……而且整個生態系統的關聯性極強。這不僅關乎光刻技術本身，還涉及我們的光刻設備如何融入客户的整個生產流程。」

富凱的判斷中，至少有一點是完全正確的：中國絕不會停下追求技術突破的腳步。

法國《世界報》10月曾刊文指出，面對光刻技術瓶頸，中國企業正加倍努力實現自給自足。在國家戰略支持下，中國企業已制定宏偉目標，計劃到2030年掌控全球近三分之一的晶圓代工產能。

報道強調，這是中國「以自主技術突破西方封鎖」的又一次重要嘗試。有分析師告訴法媒，中國國內已形成普遍共識——無論面臨多少阻礙，加速推進技術突破的目標堅定不移。

「封鎖成爲了中國企業的興奮劑。」有法媒總結該文章論點稱，來自美西方的技術封鎖反倒激發了中國更強烈的自主慾望，「整個中國，現在都在以一種‘你封我，我就自己造’的精神前行着。」

2024年1月，中方曾就美國強推「光刻機禁令」嚴正表態稱，中方一貫反對美國泛化國家安全概念，以各種藉口脅迫其他國家搞對華科技封鎖。半導體是高度全球化的產業，在各國經濟深度融合的背景下，美方有關霸道、霸凌行徑嚴重違背國際貿易規則，嚴重破壞全球半導體產業格局，嚴重衝擊國際產業鏈、供應鏈的安全和穩定，必將自食其果。

中方同時敦促荷方秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，以實際行動維護中荷兩國和雙方企業的共同利益，維護國際產業鏈、供應鏈的穩定和自由、開放、公正、非歧視的國際貿易環境。

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