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SK keyfoundry推出新型多層厚金屬間電介質工藝

2025-09-23 13:02

SK keyfoundry宣佈推出具備業界領先高擊穿電壓特性的多層厚金屬間電介質 (Thick IMD)電容工藝。該工藝支持堆疊最多三層IMD,每層最大厚度達6微米,從而在金屬-絕緣體-金屬(MIM)結構中,總厚度最高可達到18微米。該工藝可提供高達19,000V的擊穿電壓特性及優異電容性能,預計將用於製造數字隔離用電容器,以及電子電路中抑制電容耦合的電容器。採用此工藝製造的電容已成功通過主要客户的經時介電層擊穿(TDDB)評估,並符合AEC-Q100國際汽車半導體質量標準。(美通社)

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