中微公司重磅發佈六大半導體設備新產品

（來源：第三代半導體產業）

2025年9月4日 —— 在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱 「中微公司」，股票代碼：688012.SH）宣佈重磅推出六款半導體設備新產品。這些設備覆蓋等離子體刻蝕（Etch）、原子層沉積（ALD）及外延（EPI）等關鍵工藝，不僅充分彰顯了中微公司在技術領域的硬核實力，更進一步鞏固了其在高端半導體設備市場的領先地位，為加速向高端設備平臺化公司轉型注入強勁新動能。

開幕式上，中微公司董事長兼總經理尹志堯博士在主旨報告環節正式宣佈了六款新設備的發佈，並深入闡述了新產品的先進性能與獨特優勢。他強調，中微公司始終以市場與客户需求為導向，持續加大研發力度。公司2025年上半年研發投入達14.92億元，同比增長約53.70%，研發投入佔公司營業收入比例約為30.07%，遠高於科創板上市公司10%到15%的平均研發投入水平。目前，公司在研項目涵蓋六大類、超二十款新設備，研發速度實現跨越式提升 —— 過去一款新設備的開發周期通常為3到5年，如今僅需2年甚至更短時間就能推出極具市場競爭力的產品並順利落地。

尹志堯博士在開幕式上做主旨報告

刻蝕技術再攀高峰 

兩款新品又增核心競爭力

在刻蝕技術方面，中微公司此次發佈的兩款新品分別在極高深寬比刻蝕及金屬刻蝕領域為客户提供了領先和高效的解決方案。

中微公司新一代極高深寬比等離子體刻蝕「利器」—— CCP 電容性高能等離子體刻蝕機Primo UD-RIE®基於成熟的 Primo HD-RIE®設計架構並全面升級，配備六個單反應台反應腔，通過更低頻率、更大功率的射頻偏壓電源，提供更高離子轟擊能量，可以滿足極高深寬比刻蝕的嚴苛要求，兼顧刻蝕精度與生產效率。

Primo UD-RIE®引入了多項創新技術，自主研發的動態邊緣阻抗調節系統通過調節晶圓邊緣等離子體殼層調節邊緣深孔刻蝕的垂直性，大大提高了晶圓邊緣的合格率。其上電極多區温控系統，優化了高射頻功率下的散熱管理，有效提升了設備的穩定性和可靠性。同時，Primo UD-RIE®還採用了全新的温度可切換多區控温靜電吸盤和主動控温邊緣組件，不僅提高了抗電弧放電能力，還顯著提升了晶圓邊緣的良率，為生產先進存儲芯片提供了有力保障。

中微公司Primo UD-RIE®

同步亮相的Primo Menova™ 12 寸ICP 單腔刻蝕設備，專注於金屬刻蝕領域，尤其擅長金屬 Al 線、Al 塊刻蝕，廣泛適用於功率半導體、存儲器件及先進邏輯芯片製造，是晶圓廠金屬化工藝的核心設備。這款設備延續了中微公司量產機型Primo Nanova®的優秀基因，在刻蝕均一性控制方面表現卓越，可實現高速率、高選擇比及低底層介質損傷等優異性能。同時，其高效腔體清潔工藝能有效減少腔室污染、延長持續運行時間；集成的高温水蒸氣除膠腔室（VoDM strip chamber）可高效清除金屬刻蝕后晶圓表面殘留的光刻膠及副產物。此外，主刻蝕腔體與除膠腔體可根據客户工藝需求靈活組合，最大限度滿足高生產效率要求，確保高負荷生產中的穩定性與良率。今年6月，該設備的全球首臺機已付運到客户認證，進展順利，並和更多的客户展開合作。      

中微公司Primo Menova™

薄膜沉積佈局升級

Preforma Uniflash®  系列填補空白

在此次新品發佈中，中微公司推出的12英寸原子層沉積產品 Preforma Uniflash®  金屬柵系列，成為薄膜沉積領域的一大亮點。該系列涵蓋Preforma Uniflash® TiN、Preforma Uniflash® TiAI及Preforma Uniflash® TaN三大產品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應用需求。

Preforma Uniflash® 金屬柵系列產品採用中微公司獨創的雙反應台設計，系統可靈活配置多達五個雙反應台反應腔，滿足高真空系統工藝集成需求的同時實現業界領先的生產效率。該系列產品搭載中微公司獨有的多級勻氣混氣系統，融合基於模型算法的加熱系統設計，以及可實現高效原子層沉積反應的反應腔流導設計等核心技術，不僅能滿足先進邏輯客户的性能需求，其設備在薄膜均一性、污染物控制能力及生產效率方面均達到世界先進水平。

隨着半導體技術的迭代升級，原子層沉積技術的應用需求持續攀升。其中，金屬柵應用作為先進邏輯器件的關鍵環節，對設備的薄膜厚度和特性的精準控制、臺階覆蓋率、顆粒物污染控制及系統整合能力均提出了極高要求。Preforma Uniflash® 系列的推出，不僅進一步豐富了中微公司的薄膜設備產品線，更以其在高精度、高性能原子層沉積領域的技術實力，實現了半導體工藝應用上的全新突破，為中微公司長期發展開闢了更為廣闊的空間。

中微公司Preforma Uniflash® 金屬柵系列

堅持突破創新

構建多元產品矩陣

中微公司在新興技術領域的佈局同樣令人矚目，其發佈的全球首款雙腔減壓外延設備 PRIMIO Epita® RP，憑藉獨特設計成為行業焦點。作為目前市場上獨有的雙腔設計外延減壓設備，其反應腔體積為全球最小，且可靈活配置多至6個反應腔，在顯著降低生產成本與化學品消耗的同時，實現了高生產效率。該設備搭載擁有完全自主知識產權的雙腔設計、多層獨立控制氣體分區，以及具備多個徑向調節能力的温場和温控設計，確保了優秀的流場與温場均勻性及調節能力。憑藉卓越的工藝適應性和兼容性，該設備可滿足從成熟到先進節點的邏輯、存儲和功率器件等多領域外延工藝需求。去年8月，該設備已付運到客户進行成熟製程和先進製程驗證，進展順利，並將和更多的客户展開合作。

中微公司PRIMIO Epita® RP

 作為國內高端半導體設備製造的領軍者，中微公司的技術實力已得到全球市場的廣泛認可。其等離子體刻蝕設備已應用於國際一線客户從65納米到14納米、7納米、5納米及其他先進集成電路加工製造生產線，以及先進存儲、先進封裝生產線。其中，CCP 電容性高能等離子體刻蝕機和 ICP 電感性低能等離子體刻蝕機可覆蓋國內95% 以上的刻蝕應用需求，在性能、穩定性等方面滿足客户先進製程的嚴苛要求。截至2025年6月底，公司累計已有超6800台等離子體刻蝕和化學薄膜設備的反應台，在國內外155條生產線實現量產和大規模重複性銷售，深度融入全球半導體產業鏈。

中微公司始終堅持突破創新，強調 「技術的創新、產品的差異化和知識產權保護」，公司目前在研項目涵蓋六類設備、超二十款新設備的開發，包括新一代的CCP高能等離子體刻蝕設備、新一代的ICP低能等離子體刻蝕設備，晶圓邊緣刻蝕設備，低壓熱化學沉積LPCVD及原子水平沉積ALD等薄膜設備、硅和鍺硅外延EPI設備，新一代等離子體源的PECVD設備和電子束量檢測等設備。在泛半導體微觀製造領域，中微公司也在不斷拓展產品佈局，包括製造氮化鎵基發光二極管，Mini-LED和Micro-LED的MOCVD設備，用於紅黃光LED的MOCVD設備，製造碳化硅和氮化鎵功率器件的MOCVD設備，製造MEMS的深硅刻蝕設備，先進封裝Chiplet所需的TSV刻蝕設備和PVD設備，新型顯示技術領域所需的核心薄膜及等離子體刻蝕設備等。

未來，中微公司將瞄準「打造世界級裝備企業」戰略目標，持續開發高端設備產品，不斷提升產品的性能和質量、提高運營效率和風險管控能力，認真貫徹「五個十大」的企業文化，即「產品開發十大原則」、「戰略銷售十大準則」、「營運管理十大章法」、「精神文化十大作風」和「領導能力十大要點」，堅持三維立體發展戰略，堅持有機生長和外延擴展的策略，實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展，力爭儘早成為高端設備平臺化公司，在規模上和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司！

中微公司發展壯大的「五個十大」

關於中微半導體設備（上海）股份有限公司

中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力於為全球集成電路和LED芯片製造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類、包括二十幾種細分刻蝕設備已可以覆蓋大多數刻蝕的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用於國內和國際一線客户，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年着重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設備，並取得了可喜的進步。中微公司開發的用於LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客户生產線上投入量產，並在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場佔據領先地位。此外，中微公司已全面佈局光學和電子束量檢測設備，並開發多種泛半導體微觀加工設備。這些設備都是製造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。在美國TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半導體設備客户滿意度調查中，中微公司四次獲得總評分第三，薄膜設備四次被評為第一。