中微公司深度融入全球半導體產業鏈，再發六款半導體設備新品

中微公司（688012.SH）官微消息，9月4日，在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，中微公司宣佈推出六款半導體設備新產品。這些設備覆蓋等離子體刻蝕（Etch）、原子層沉積（ALD）及外延（EPI）等關鍵工藝。在此次新品發佈中，中微公司推出的12英寸原子層沉積產品Preforma Uniflash®金屬柵系列，成為薄膜沉積領域的一大亮點。該系列涵蓋三大產品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應用需求。

作為國內高端半導體設備製造的領軍者，中微公司的技術實力已得到全球市場的廣泛認可。其等離子體刻蝕設備已應用於國際一線客户從65納米到14納米、7納米、5納米及其他先進集成電路加工製造生產線，以及先進存儲、先進封裝生產線。其中，CCP 電容性高能等離子體刻蝕機和 ICP 電感性低能等離子體刻蝕機可覆蓋國內95% 以上的刻蝕應用需求，在性能、穩定性等方面滿足客户先進製程的嚴苛要求。截至2025年6月底，公司累計已有超6800台等離子體刻蝕和化學薄膜設備的反應台，在國內外155條生產線實現量產和大規模重複性銷售，深度融入全球半導體產業鏈。