快訊 | 阿斯麥和IMEC聯合光刻實驗室啟用

比利時微電子研究中心（IMEC）和阿斯麥(ASML.O)6月3日宣佈，由雙方共同運營的High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab）在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開幕，該實驗室可提供High NA EUV掃描儀（TWINSCANEXE：5000）及周邊處理工具。聲明中稱，該實驗室的啟用是為大批量生產High NA EUV做準備的一個里程碑，預計將於2025-2026年實現大批量生產。