ASML面臨挫折華為創新突破EUV限制突破專利

華為技術有限公司和一家在中國的機密芯片製造合作伙伴一直在通過自對準四重圖案化（SAQP）專利在半導體技術方面取得進展，這一方法可能規避了美國出口管制所禁止的高端光刻設備的需求。

中國專利申請中詳細介紹了這些發展，可以使先進半導體的生產無需依賴ASML Holding NV（NASDAQ：ASML）的極紫外光刻機（EUV）設備，ASML是唯一禁止向中國銷售這些設備的供應商。ASML股價在更新后下跌。

彭博社報道，四重圖案化旨在提高硅晶片上的晶體管密度，提高芯片性能。

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華為的專利表明，這項技術可以增加電路圖案設計的自由度，暗示在創造更復雜芯片方面取得進展。

國家支持的SiCarrier與華為合作，獲得了一項專利，該專利利用深紫外光刻（DUV）與SAQP實現了與5納米（nm）芯片相當的基準，表明在沒有EUV技術的情況下，朝着具有成本效益的製造邁出了一大步。

華為去年推出了一款採用先進7納米處理器的智能手機，標誌着中國取得了重大成就。

去年11月，華為出價超過英偉達公司（NASDAQ：NVDA）從中國科技巨頭百度公司（NASDAQ：BIDU）獲得了一筆重大人工智能芯片訂單，因為美國的制裁開始。

據報道，阿里巴巴集團控股有限公司（NYSE：BABA）和同行計劃大幅削減英偉達芯片訂單。報告顯示，中國雲計算公司近80%的高端人工智能芯片都是從英偉達採購的，在未來五年內，他們的訂單可能會減少50%—60%。

2023年，中國的芯片製造機進口量增長了14%，達到近400億美元，創2015年以來的最高紀錄，儘管進口總量下降了5.5%。

去年，中國從荷蘭的進口也大幅增加，因為預計即將實施出口管制，這主要影響了Semiconductor Manufacturing International Corp.。

去年12月，來自荷蘭的光刻設備進口激增近1，000%，達到11億美元，原因是企業在荷蘭新的限制措施出台之前紛紛搶購設備。

價格走勢：ASML股價在上周五的最后一次檢查中下跌1.59%，至975.01美元。

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圖片來源：ASML