Axcelis宣布在领先的半导体代工厂成功关闭Purion XEmax Eval

系统符合需要先进15 MeV植入能力的新兴PMIC器件应用的资格

马萨诸塞州贝弗利，2026年7月28日/美通社/ -- Axcelis科技公司（纳斯达克：ACLS）是半导体行业离子注入解决方案的领先供应商，今天宣布在一家领先的铸造厂成功推出Purion XEmax™高能注入机评估封盖。该系统将用于生产电源管理集成电路（PMIC）。

总裁兼首席执行官Russell Low评论道：“我们很高兴能够成为这个重要的新兴市场的一部分，并有机会为芯片制造商提供最先进的高能离子植入技术，以支持他们的下一代设备开发。成功的评估结束凸显了客户对先进PMIC设备上更高能量植入配方的不断增长的要求，而只有Purion XEmax提供这一点。该系统采用双LINAC设计，采用获得专利的Boost Technology™，可提供高达15 MeV的行业最高能量。"

电源管理集成电路（PMIC）是高度专业化的半导体，在现代电子产品中充当功率的中枢神经系统。它们将多种功率控制功能（例如电压调节、电池充电和热管理）整合到单个芯片中，从而提高从智能手机到电动汽车等各种产品的效率并优化电池寿命。

Purion XE系列：我们的Purion XE™系列离子注入机已迅速赢得声誉，成为当今要求严格的高能配方的行业标准。与竞争平台相比，他们独特的RF线性加速器（LINAC）技术提供更高的可靠性、更广泛的能量范围和更高的生产力，并具有卓越的金属污染控制。Purion High Energy系列包括多种脉冲机，使客户能够为其应用选择最佳的能量水平：行业领先的Purion XE;用于提高生产力的Purion Exec ™;用于大容量和更高能源应用的Purion VXE™;用于电源设备的Purion XE Power系列;此外，Purion XEmax采用专利的Boost™技术，可减少金属含量，并提供下一代设备所需的超高能量。

关于Axcelis Axcelis（纳斯达克股票代码：ACLS），总部设在贝弗利，马萨诸塞州，45年来，一直为半导体行业提供创新的高生产力解决方案。Axcelis致力于通过离子注入系统的设计、制造和完整的生命周期支持来开发使能工艺应用，离子注入系统是IC制造工艺中最关键和使能的步骤之一。欲了解更多关于Axcelis的信息，请访问www.axcelis.com。

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来源：Axcelis科技公司