2026年国内光掩模企业进展大盘点！

（来源：半导体前沿）

-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告

半导体光掩模（光罩）作为集成电路制造的“咽喉”核心耗材，直接决定芯片制程精度、良率与量产效率。长期以来，全球高端光掩模市场被日本Tekscend（原Toppan）、DNP及美国Photronics等企业主导，中国国产化率整体仅约10%，高端（28nm及以下）不足3%。在国家政策大力支持与晶圆厂扩产驱动下，国内光掩模产业正加速实现从“跟跑”到“并跑”的跨越，一批晶圆厂自建掩模部门与第三方专业厂商快速崛起，技术节点持续突破，产能布局加速落地，为半导体产业链自主可控注入强劲动力。

以下是2025-2026年国内主要光掩模企业最新进展梳理：

中芯国际光罩（中国）

中芯国际光罩（SMIC Mask）是中国集成电路晶圆代工企业中芯国际的光掩模制造部门，提供包括二元铬版光掩模和相位移动光掩模在内的制造服务，支持多种尺寸和曝光技术的光掩模生产。中芯光罩厂以其内部光罩厂的优势，如缩短流片周期、降低运输损伤风险、增加服务灵活性和减少成本，以及严格的品质控制和信息安全措施，确保了高品质光掩模的出货，保护客户的知识产权。

中芯国际计划在未来几年内增加四座12英寸晶圆产能，总产能达到34万片/月。2023年已完成3万片/月新产能建设，并计划在2024年完成另外6万片/月。同时，公司在上海浦东新区书院镇投资超过58亿元建设新的光罩产线，新增产能共720片/月，以满足市场需求和技术进步。中芯国际光罩厂的技术能力覆盖从0.35微米到14纳米各技术节点的光掩模产品，展现了公司在光掩模制造领域的自给自足能力。

华润微无锡迪思微电子（中国）

华润微电子旗下的无锡迪思微电子有限公司是中国光掩模制造行业的领先企业，专注于为国内外晶圆代工厂和IC设计公司提供高端光掩模制造服务。公司技术覆盖12英寸、8英寸、6英寸晶圆生产线，是国内少数能够生产中高端掩模的企业之一，长期致力于提升掩模制程能力，满足市场需求。

无锡迪思微电子在2024年下半年实现90nm制程量产并计划2026年实现28nm升级。公司近期完成了6.2亿元人民币的股权融资，将全部用于高阶光掩模产线的建设，同时投资约13亿元人民币建设40纳米先进光掩模产线，以增强核心竞争力，填补国内高端掩模代工领域的空白。这些举措显示了华润微电子在光罩业务领域的积极扩张和技术升级，致力于提升国产光掩模的技术水平和市场竞争力。

其他第三方光掩模企业

亚化咨询《中国半导体光掩模产业报告2026》梳理的国内重要的第三方光掩模企业如下：

冠石科技，冠石科技的光罩业务由宁波冠石半导体有限公司负责。公司投资约20亿元人民币在宁波前湾新区建设光掩膜版制造项目，旨在生产45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版。项目建成后将年产12,450片光掩膜版，覆盖350-28nm制程，服务于高性能计算、人工智能、移动通信等领域。

最新动态显示，冠石科技的光掩膜版制造项目已成功封顶，首台电子束掩膜版光刻机于2024年7月中旬顺利交付，这是实现40纳米量产和28纳米研发的关键设备。其他核心设备也在陆续交付和安装调试中。预计2025年公司将实现45nm光掩膜版的量产，到2028年有望实现28nm光掩膜版的量产。

泉意光罩，泉意光罩光电科技（济南）有限公司成立于2020年10月，位于山东省济南市。公司主营业务为光罩（光掩模版）的研发、生产与销售，是链接IC设计与制造的关键工具。光罩制造工艺包括光刻、制程、检验、修补、清洗和贴膜等环节，公司致力于为客户提供优质的光罩产品与服务，保证产品品质和交付及时性。目前，泉意光罩已具备为客户提供40~180nm制程芯片投片的光罩产品的能力。泉意光罩正吸引更多优秀人才加入公司，致力于成为全球领先的光掩模独立制造商，并抓住中国成为全球最大芯片生产国的市场机遇，承担起高阶光罩国产替代的历史使命。

清溢光电，清溢光电成立于2001年，是国内领先的光掩模制造商之一。专注于平板显示（FPD）和半导体领域的光掩模生产，产品涵盖G2.5至G11全世代产线。清溢光电在高精度掩模版制造方面具有丰富经验，已实现多种高世代掩模版的量产。作为国内光掩模行业的龙头企业之一，清溢光电在市场中占据重要份额。

路维光电，路维光电成立于2006年，是国内知名的光掩模制造企业。公司产品广泛应用于平板显示、半导体、触控等领域，覆盖G2.5至G11全世代产线。路维光电已实现250nm半导体掩模版的量产，并掌握了180nm和150nm节点的核心制造技术。作为国内唯一一家覆盖G2.5至G11全世代产线的本土掩模版生产企业，路维光电在行业内具有重要影响力。在高端集成电路掩模领域具有一定的技术优势。

龙图光罩，龙图光罩是一家专注于半导体掩模版制造的企业。主要从事半导体芯片掩模版的开发和生产。截至2025年，龙图已实现90nm量产出货，65nm进入送样验证阶段，正在规划40-28nm。在半导体掩模版领域积极追赶国际先进水平。

无锡中微掩模，无锡中微掩模电子有限公司是一家成立于2007年的高科技企业，专注于高端集成电路掩模的生产和技术开发。公司业务涵盖掩膜版的研发、生产和销售，产品主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业。中微掩模拥有先进的技术和一流的设备，能够提供从0.35到0.13微米工艺节点的掩模版产品，包括二元掩模、相移掩模和OPC掩模等。公司在平板显示和半导体领域拥有众多知名客户，如京东方、华星光电、士兰微等，致力于推动关键材料的国产化进程和进口替代。

新锐光掩模，广州新锐光掩模科技有限公司是一家成立于2021年2月的高科技企业，位于广东省广州市黄埔开发区中新知识城集成电路产业园，是独立先进光掩模生产制造商。新锐光掩模科技有限公司计划投资约31亿元人民币，在广东省广州市黄埔开发区中新知识城枫下片区新建面向半导体应用的光掩模项目。项目占地面积约54689.04平方米，总建筑面积约66604平方米，预计年产光掩模版48000片。2023年12月，新锐光掩模的掩模版项目一期验收完成。由于沪硅产业(688126)为大股东之一，预计公司后续将和沪硅产业有进一步的合作。

台湾光罩（中国台湾），台湾光罩是中国台湾地区的主要掩模版制造商之一。主要产能集中于65nm以上制程，预计2023年第四季度实现40nm制程量产，2025年实现28nm量产。在中高端掩模版制造领域具有一定的技术积累。在中国台湾地区占据重要市场份额，并积极拓展大陆市场。

全球光罩行业展望

光罩作为半导体制造的核心部件，未来将因技术升级和区域化供应链的推动而快速发展。高数值孔径（High-NA）EUV光罩和新材料突破，如低缺陷率碳基材料，将成为提升精度和降低成本的关键。同时，人工智能驱动的缺陷检测和高精度修复技术将提高光罩的可靠性，助力先进节点（3nm及以下）芯片制造。

全球光罩生产仍由日本、美国等主导，但区域化趋势显著。中国、韩国等市场正加速构建本地光罩能力以降低外部依赖。在中国，清溢光电、路维光电等企业在中低端节点和平板显示领域已实现高自主化，但在EUV光罩等高端技术上仍需突破。

未来，光罩行业将以技术创新和供应链多元化为驱动，满足先进制程需求。亚化咨询的《中国半导体光掩模产业报告2026》分析认为，中国企业在成熟制程的崛起，必将驱动国内光罩（光掩模版）的需求。中国市场将为全球光罩产业注入新活力，助推半导体制造迈向更大的规模与更高的水平。

—论坛信息—

名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛

时间：2026年4月24日

地点：上海

主办方：亚化咨询

—会议背景—

随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。

进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。

全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。

第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。

—会议主题—