清溢光电2026年计划实现90nm半导体掩膜版量产

经济观察网清溢光电（688138）在2026年及之后，其产能扩张、技术突破及财务报告计划值得关注。

公司项目推进

根据上海证券报报道，清溢光电佛山基地正加速高端掩膜版国产化进程，计划在2026年第一季度实现高精度平板显示掩膜版的良率提升并向核心客户送样认证，并目标在2026年下半年实现该产线满负荷运营。同时，公司计划在2026年实现90nm技术节点的半导体掩膜版量产，并争取在2027年至2028年突破28nm技术节点。此外，雪球分析指出，佛山基地处于试产阶段，2026年核心任务是提升良率，半导体掩膜版量产需等待2026-2027年。

业务进展情况

东方财富网报道显示，清溢光电已与摩尔线程、沐曦股份等国产AI芯片客户建立批量供货或技术合作，未来需关注订单落地及认证进度。公司针对京东方等头部客户的新项目，提供全套掩膜版解决方案，以增强供应链自主可控。

业绩经营情况

公司已于2026年2月28日发布2025年度业绩快报，但完整年度报告尚未披露，投资者可关注后续2025年年度报告的正式发布，以获取经审计的财务数据。

以上内容基于公开资料整理，不构成投资建议。