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2025-08-25 08:48
投资者提问:
对3nm芯片制程而言,臭氧水清洗是比传统湿法rca清洗更好吗?是因为臭氧水清洗力更强,对晶圆的伤害越小,可以显著提升良率对吗?
董秘回答(国林科技SZ300786):
尊敬的投资者,您好。类似问题已回复,请您参考相关回复和公司公告。感谢您的关注。