光刻机板块异动拉升，核心标的梳理

（来源：金融小博士）

今天盘面上，光刻机板块异动拉升，海立股份、旭光电子盘中涨停创历史新高，海立股份、凯美特气涨停，同飞股份、久日新材、洪田股份（维权）涨超8%，茂莱光学、张江高科跟涨。

国金证券此前指出，光刻机作为晶圆制造最核心设备，当前国产化率不足5%，国产替代进程有望加速，建议关注核心部件供应商。

光刻机板块正处于“技术突破+政策红利+国产替代”共振期，长期成长逻辑清晰，但需关注技术落地节奏与国际环境变化。

中国光刻机产业链核心企业深度解析：技术突破与国产替代新格局

产业背景与趋势

2025年，中国光刻机产业迎来历史性突破：璞璘科技自主研发的步进式纳米压印设备实现线宽小于10nm的工艺，核心指标超越日本佳能同类产品；上海芯上微装成立仅半年即完成500台步进光刻机交付。这些进展标志着中国在高端半导体装备领域加速实现国产替代，从整机制造到核心部件的技术突破已形成完整生态链。

1. 张江高科（600895.SH）

• 细分领域：光刻机产业投资与孵化平台

• 核心优势：通过子公司持有上海微电子约10%股权，后者是国内唯一能量产90nm光刻机并推进28nm浸没式设备研发的企业。

• 亮点：作为张江科学城开发主体，打造集成电路创新服务平台“张江浩芯”，整合设计、制造、封测全链条资源，加速国产芯片从研发到量产进程。其房产开发业务为光刻机产业链提供稳定资金支持，形成“科技+地产”双轮驱动模式。

2. 大族激光（002008.SZ）

• 细分领域：激光设备与光刻技术

• 核心优势：国内唯一实现接近式光刻机量产的上市企业，技术覆盖激光光源、精密控制等关键环节。

• 亮点：依托亚洲最大的激光加工设备产能（年出货量超万台），垂直整合光学元件、控制系统等核心部件，其光刻机产品已切入封装测试领域，成本较进口设备降低30%。

3. 茂莱光学（688502.SH）

• 细分领域：DUV光刻机光学系统

• 核心优势：国内唯一量产DUV光刻机投影物镜的企业，物镜面形精度达λ/50，单机价值量超5000万元。

• 亮点：实现从光学设计、加工到检测的全链条自主可控，产品良率超95%。与上海微电子深度绑定，参与28nm光刻机升级项目，2025年新增订单同比翻倍。

4. 凯美特气（002549.SZ）

• 细分领域：电子特气（光刻气）

• 核心优势：国内唯一通过ASML认证的KrF/ArF光刻气供应商，稀有气体纯化技术填补国内空白。

• 亮点：光刻气产能扩张至12万立方米/年，产品纯度达99.9999%，进入台积电、中芯国际供应链。2025年电子特气收入占比提升至60%，毛利率维持65%以上。

5. 华特气体（688268.SH）

• 细分领域：光刻混合气体

• 核心优势：国内唯一同时通过ASML和日本GIGAPHOTON认证的气体企业，覆盖EUV光刻所需的全系混合气。

• 亮点：5nm先进制程用光刻气实现国产替代，客户包括三星、英特尔。2024年研发投入占比达12%，推出全球首款兼容EUV/DUV的混合气解决方案。

6. 新莱应材（维权）（300260.SZ）

• 细分领域：高洁净应用材料

• 核心优势：半导体真空系统与气体输送设备通过ASML认证，覆盖光刻机洁净环境需求。

• 亮点：产品耐压强度达10MPa，泄漏率低于1×10^-9 Pa·m³/s，打破美国应用材料垄断。2025年光刻机相关业务收入预计突破15亿元，同比增长45%。

7. 美埃科技（688376.SH）

• 细分领域：光刻机洁净环境控制

• 核心优势：为上海微电子28nm光刻机定制空气净化系统，洁净度达Class 1级（每立方米空气中微粒数≤1颗）。

• 亮点：全球市占率提升至30%，海外收入增长86%。2025年产能扩张至1.5倍，耗材业务占比增至28%，形成“设备+服务”双盈利模式。

8. 炬光科技（688167.SH）

• 细分领域：光刻机激光光源

• 核心优势：全球第二大光场匀化器供应商，产品用于ASML EUV光刻机曝光系统。

• 亮点：攻克纳米级光束整形技术，光效提升至40%，成本较海外同类产品低25%。2024年斩获ASML追加订单，预计2025年净利润增长超150%。

9. 奥普光电（002338.SZ）

• 细分领域：EUV光刻机物镜系统

• 核心优势：依托中科院长春光机所，承担国家EUV物镜攻关项目，面形精度达2nm。

• 亮点：突破超精密光学加工技术，镜片面形误差控制在λ/50以内。2025年进入上海微电子供应链，参与下一代High-NA EUV研发。

10. 波长光电（301421.SZ）

• 细分领域：光刻机光学组件

• 核心优势：大孔径光学镜头支持65nm以下制程，EUV物镜系统面型精度达2nm。

• 亮点：国内唯一量产DUV光刻机照明系统的企业，2025年产能提升至500台/年。推出全球首款兼容ArF/KrF的模块化镜头，成本降低40%。

投资逻辑与行业展望

1. 技术突破驱动估值重塑：上述企业在光刻机核心环节（整机、光学、气体、洁净设备）均实现从0到1的突破，技术壁垒形成护城河。例如，纳米压印技术（璞璘科技）为绕开EUV专利封锁提供新路径，国产化率有望在3年内从10%提升至30%。

2. 产业链协同效应显著：头部企业通过垂直整合（如大族激光）或横向合作（如茂莱光学与上海微电子）降低成本、提升良率。例如，国产28nm光刻机成本较ASML同级设备低30%，良率差距缩至5%以内。

3. 政策与资本双轮助推：大基金三期重点投向光刻机产业链，2025年专项补贴超500亿元。地方政府（如上海张江）通过产业基金、税收优惠加速技术转化，形成“研发-量产-应用”闭环。

4. 风险提示：需警惕技术迭代风险（如EUV路线替代）、地缘政治扰动（如出口管制）及晶圆厂扩产不及预期导致的订单波动。

结论

中国光刻机产业链正从“单点突破”迈向“系统重构”，上述企业凭借技术自主性、成本优势及政策支持，有望在全球半导体设备市场中占据重要地位。随着纳米压印、直写光刻等替代技术成熟，国产替代进程或将进一步加速，相关企业成长空间广阔。