投资者提问：光刻胶从低端到高端，分为pcb光刻胶、duv光刻胶、euv光刻...

投资者提问：

光刻胶从低端到高端，分为pcb光刻胶、duv光刻胶、euv光刻胶。光刻胶对应的制程最先进，对应的清洗设备性能与精度也就越高。请问公司的半导体清洗设备能否满足euv级别光刻胶的清洗？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。国林半导体公司的产品可为芯片光 刻制造环节中的清洗工艺提供对应的机能水设备，满足工序清洗需求。感谢您的关注。