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国林科技:投资者询问设备配套EUV光刻工艺需求,董秘指已回复

2025-07-28 08:57

投资者提问:

euv光刻机通常用来制造7nm以下先进制程的芯片。从产品技术原理上,公司的半导体设备能满足euv光刻机光刻工艺的配套需要吗?

董秘回答(国林科技SZ300786):

尊敬的投资者,您好。类似问题已回复,请您参考相关回复和公司公告。感谢您的关注。

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