盛美上海对其用于先进芯片制造领域的Ultra C wb湿法清洗设备进行重大升级

转自：证券时报

人民财讯7月25日电，盛美上海今日宣布对其Ultra C wb湿法清洗设备进行了重大升级。此次全新升级旨在满足先进节点制造工艺的苛刻技术要求。升级后的Ultra C wb采用了专利申请中的氮气（N2）鼓泡技术，有效解决了湿法刻蚀均匀性差和副产物二次沉积问题。这项技术在500层以上的3D NAND，3D DRAM，3D逻辑器件中有巨大的应用前景。