光刻机，国产替代加速，核心公司梳理！（附名单）

（转自：金融小博士）

光刻机技术壁垒极高，目前是我国先进制程扩产的‘卡脖子’卡的最厉害的环节。

在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。在整个集成电路制造过程中,光刻是最核心、最复杂的工艺步骤，利用光学原理在硅片上转移电路图形，决定了晶体管的最小特征尺寸及密度。

全球市场由ASML主导。当前最高端的产品就是其研发的极紫外光刻机（EUV），能支持7nm甚至更先进的工艺，单价超1.5亿美元。

2024年我国是ASML全球最大市场，然而美国出口限制却持续加码，企图遏制我们的发展。在此背景下，国产替代加速推进。

本期我们从光刻机光源、光学系统、精密部件、核心材料等关键环节，梳理A股光刻机领域的核心公司，分享给大家一起探讨研究。

中国光刻机产业链核心企业投资价值分析（2025年）

一、光刻机产业链核心环节及代表企业

光刻机作为半导体制造的核心设备，技术壁垒极高，涉及 光源系统、光学系统、精密机械、电子控制、材料 等多个关键环节。以下为各环节的国内核心企业及其技术突破与投资亮点：

二、核心企业深度解析

1. 光源系统

（1）凯美特气（002549）

• 核心优势

• 国内唯一通过ASML子公司Cymer及日本GIGAPHOTON认证的光刻气供应商，产品纯度达99.9999%，支撑KrF/ArF光刻机光源系统。

• 2025年Q1净利润同比激增1104.89%，氢气及燃料气销量增长显著，大基金三期重点扶持对象。

• 技术突破

• 激光混配气技术打破海外垄断，已应用于中芯国际、长江存储等产线。

• 投资逻辑

• 全球光刻气市场规模超20亿美元，国产替代空间达70%，公司作为技术龙头将优先受益。

（2）福晶科技（002222）

• 核心优势

• 全球最大非线性光学晶体（LBO、BBO）供应商，市占率超60%，产品用于光刻机激光光源系统。

• 2023年净利润同比增长58%，深度绑定ASML、蔡司等国际巨头。

• 技术突破

• 固体激光驱动技术助力国产EUV光源研发（中科院效率达3.42%），参与原型机开发。

• 投资逻辑

• EUV光源商业化加速（预计2030年量产），公司作为核心材料供应商将迎来爆发期。

2. 光学系统

（1）茂莱光学（688502）

• 核心优势

• DUV光学透镜已进入上海微电子供应链，2025年拟启动紫外检测系统样机试制。

• 2025年Q1净利润同比增长288.7%，DUV物镜系统单机价值量达5000万元（较i线镜头增长10倍）。

• 技术突破

• 精度达纳米级的非球面镜片技术，中标ASML合作项目，未来三年订单或呈十倍级增长。

• 投资逻辑

• 光刻机光学系统占设备成本20%-30%，国产替代加速下，公司有望抢占30%市场份额。

（2）奥普光电（002338）

• 核心优势

• 长春光机所控股企业，参与EUV光刻机物镜系统研发，定位精度达0.8nm，对标蔡司。

• 2025年Q1营收同比增长31%，光栅编码器、K9光学玻璃应用于国产原型机。

• 技术突破

• 军工技术民用化标杆，光刻机光学组件国产化率从0提升至15%。

• 投资逻辑

• EUV技术突破后，公司有望成为国产高端光学系统核心供应商。

3. 精密部件与设备

（1）蓝英装备（300293）

• 核心优势

• 全球唯一为ASML提供EUV光刻机清洗设备的厂商，技术覆盖DUV/EUV关键清洗环节。

• 2025年6月股价涨停，清洗设备国产化率超80%，受益于国内晶圆厂扩产潮。

• 技术突破

• 超高精细清洗技术打破海外垄断，客户包括ASML及国内龙头半导体制造商。

• 投资逻辑

• 光刻机清洗设备市场规模超50亿元，公司技术壁垒高，订单确定性极强。

（2）富创精密（688409）

• 核心优势

• 全球少数能量产7nm设备零部件的企业，提供光刻机真空腔体、气体传输系统。

• 2025年Q1光刻机相关订单同比增长120%，客户覆盖中芯国际、长江存储。

• 技术突破

• 精密部件国产化率从2021年7%提升至2025年20%，技术对标应用材料。

• 投资逻辑

• 国产设备零部件需求爆发，公司作为平台型龙头将优先受益。

4. 整机与产业链整合

（1）张江高科（600895）

• 核心优势

• 通过子公司持有上海微电子9.09%股权，后者为国产光刻机唯一整机厂商。

• 2025年Q1净利润同比激增147.38%，上海微电子28nm光刻机量产预期下估值弹性巨大。

• 技术突破

• 上海微电子90nm光刻机已量产，28nm浸没式研发加速，计划2025年交付10台以上设备。

• 投资逻辑

• 若上海微电子借壳上市，张江高科或成最大受益方，估值或对标中微公司。

（2）上海电气（601727）

• 核心优势

• 上海微电子母公司，提供整机研发资金及产业链资源整合。

• 旗下上海微装获中芯国际批量订单，国产替代率有望突破30%。

• 技术突破

• 布局半导体前道检测设备，技术覆盖光刻、刻蚀全流程。

• 投资逻辑

• 国资背景+技术协同，公司有望成为国产光刻机产业链核心载体。

5. 材料与辅助系统

（1）南大光电（300346）

• 核心优势

• 国内唯一量产ArF光刻胶的企业，产品通过中芯国际验证并用于高端芯片制造。

• 2025年Q1光刻胶收入同比增长80%，打破日美垄断。

• 技术突破

• ArF光刻胶技术参数接近ASML标准，覆盖EUV配套材料研发。

• 投资逻辑

• 光刻胶国产化率不足5%，公司作为技术龙头将享受政策与市场双重红利。

（2）波长光电（300329）

• 核心优势

• 国产光刻机平行光源系统供应商，2024年上半年交付多套系统，支持65nm以下工艺。

• 2025年计划扩产至500台/年，覆盖DUV/EUV光源需求。

• 技术突破

• 光束整形技术指标达国际水平，已进入上海微电子供应链。

• 投资逻辑

• 光源系统国产替代加速，公司有望抢占20%市场份额。

三、行业趋势与投资策略

1. 技术突破临界点

• EUV光源

  ：中科院固体激光技术效率达3.42%，接近商用水平，2030年国产EUV光刻机有望落地。

• DUV浸润式

  ：上海微电子28nm光刻机进入量产验证阶段，2025年或实现小批量出货。

2. 政策与资本驱动

• 大基金三期

  ：首期930亿元重点投向光刻机产业链，目标2030年高端设备自主可控。

• 地方支持

  ：上海、北京等地出台专项政策，如长三角产业集群计划，目标2025年零部件国产化率70%。

3. 投资策略

• 短期

  ：关注订单落地的设备厂商（如蓝英装备、富创精密）及材料龙头（凯美特气、南大光电）。

• 中期

  ：布局光学系统（茂莱光学、奥普光电）及精密部件（福晶科技）技术突破。

• 长期

  ：跟踪整机集成（上海微电子）及EUV光源（福晶科技、科益虹源）研发进展。

四、风险提示

• 技术迭代风险

  ：EUV研发进度不及预期可能影响国产替代节奏。

• 国际供应链限制

  ：关键部件（如高NA物镜）仍依赖进口，存在断供风险。

• 研发投入压力

  ：光刻机研发周期长（5-10年），企业资金链需持续关注。