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光刻机产业链，最正宗的9家公司
2025-03-10 19:29
有传闻称，自主研发的 EUV 机器采用激光诱导放电等离子体（LDP）技术，该技术路线不同于 ASML 所采用的 LPP 方法。
近期，上海微电子光刻机重大扩产计划通过，这证实了光刻机产业化正在加速扩产。
通过对光刻机 “卡脖子” 的设备、零部件自主化替代的相关公司梳理，我们找到9家核心公司。
以下是针对光刻机核心设备及零部件国产替代的9家关键企业的系统性梳理，按技术环节分类整理：
一、光学系统：光刻机“眼睛”
1. 茂莱光学（688502）
技术突破：28nm DUV光刻机物镜组面形精度达0.5nm RMS（国际领先），国内市占率62%
核心客户
：上海微电子（SMEE）核心供应商，ASML二线合作方。
国产替代价值
：突破物镜组超精密光学加工技术，填补国内空白。
2. 福晶科技（002222）
技术壁垒：全球唯一量产KBBF晶体
（深紫外激光核心材料），EUV光源用晶体进入中科院验证阶段。
战略合作
：获华为哈勃投资（持股5.2%），联合研发超快激光模块。
国产替代价值
：打破美国对非线性光学晶体的技术封锁。
3. 苏大维格（300331）
技术突破：光刻机定位光栅良率提升至88%
，独家供应SMEE光刻机对准系统。
国产替代价值
：替代德国Heidenhain同类产品，成本降低40%。
二、精密机械与控制系统
4. 奥普光电（002338）
技术突破：超精密光栅编码器定位精度达0.08nm
，应用于SMEE双工件台。
国产替代价值
：对标荷兰ASML的RENISHAW编码器，精度差距缩至10%以内。
5. 同飞股份（300056）
技术突破：浸没式光刻机温控系统精度达±0.01℃
，保障光刻机热稳定性。
核心客户
：配套SMEE、中芯国际产线。
6. 新莱应材（300260）
技术突破：超高真空传输系统泄漏率控制达10⁻⁹ Pa·m³/s
，国产化率从18%提升至45%。
核心客户
：覆盖SMEE、北方华创、拓荆科技。
三、关键工艺设备
7. 蓝英装备（300293）
技术突破：覆盖前道晶圆清洗与光学元件清洗设备，颗粒残留控制小于0.1μm
核心客户
：SMEE、蔡司（光学镜头清洗）。
8. 晶方科技（603005）
技术突破：光刻机光路检测模组通过ASML认证，2024年出货1.2万套
国产替代价值
：替代美国KLA-Tencor检测模块，价格优势达30%。
四、后道服务生态
9. 东方嘉盛（002889）
业务突破：国内首个光刻机保税维修中心落地，2024年维修业务营收增长217%
核心价值
：破解ASML设备“只卖不修”限制，降低国内晶圆厂维护成本。
总结：国产替代逻辑与投资看点
技术壁垒
：光学（茂莱、福晶）、精密机械（奥普光电）环节突破难度最大，替代空间超百亿。
客户绑定
：绑定SMEE产业链企业（苏大维格、新莱应材）优先受益国产光刻机放量。
增量市场
：维修服务（东方嘉盛）、检测设备（晶方科技）随存量设备增长爆发。
（转自：金融小博士）
