光刻胶、芯片概念午后爆发，华大九天涨超20%，新莱应材盘中创新高

光刻胶、芯片概念3日午后大幅拉升，截至发稿，光刻胶概念方面，新来应材涨逾15%，创上市以来新高；彤程新材涨停，容大感光、南大光电、华特气体、芯源微等涨超9%，晶瑞电材涨近7%；芯片概念方面，华大九天涨逾20%，概伦电子涨逾18%，光力科技、光库科技、华海清科、景嘉微、亚光科技等涨超13%。

南大光电近日在投资者互动平台表示，公司光刻胶项目所需的光刻车间已建成，项目所需的主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机、CD-SEM（特征尺寸测量用扫描电子显微镜）、涂胶显影一体机等已经完成安装并投入使用。已经生产出多款样品发往下游客户验证，已具备了ArF光刻胶及配套材料产业化的基本条件。

晶瑞电材表示，公司KrF（248nm深紫外）光刻胶产品分辨率达到了0.25～0.13μm的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF光刻胶生产及测试线已经基本建成，设备正在安装调试中，争取今年批量供货。

新莱应材称，公司一直专注于超高洁净应用材料的研究、制造与销售，是国内唯一覆盖泛半导体、生物医药、食品安全三大领域的高洁净应用材料制造商。 公司的半导体真空系统和气体系统可以服务于相关的泛半导体设备供应商和终端制造商，设备端客户以直供的方式与客户合作，在厂务端一般通过工程公司间接供给（最终用户指定）。泛半导体真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到泛半导体产业链上下游中。

容大感光表示，自设立以来，一直致力于PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶、特种油墨等电子化学品的研发、生产和销售。公司产品主要应用在PCB、平板显示（液晶显示、触摸屏等）、集成电路、发光二极管、精密金属加工等领域。

华大九天自7月29日登陆创业板，首日上涨约130%。公司主要从事EDA工具软件的开发、销售及相关服务。EDA工具是集成电路领域的上游基础工具，应用于集成电路设计、制造、封装、测试等产业链各个环节，是集成电路产业的战略基础支柱之一。公司主要产品包括模拟电路设计全流程EDA工具系统、数字电路设计EDA工具、平板显示电路设计全流程EDA工具系统和晶圆制造EDA工具等EDA工具软件，并围绕相关领域提供技术开发服务。公司相关产品和服务主要应用于集成电路设计及制造领域。

中泰证券指出，全球光刻胶市场主要由美日企业主导，CR4约70%。近年来，随着光刻胶的需求攀升，叠加日本龙头减产，光刻胶出现供不应求的局面，部分中小晶圆厂甚至出现了“断供”现象。目前大陆企业在g/i线光刻胶已形成一定规模的销售，中高端光刻胶方面，彤程新材的KrF光刻胶产品已批量供应国内主要12英寸、8英寸晶圆厂，晶瑞电材KrF　光刻胶加紧建设中，另有多家企业ArF光刻胶研发顺利进行，其中南大光电ArF产品已通过下游客户验证，有望在未来形成销售，光刻胶国产替代趋势显著。