光刻胶概念持续走强 市场增长具有潜力 相关种类已有突破

原标题：光刻胶概念持续走强 市场增长具有潜力 相关种类已有突破 来源：同花顺综合

7月8日，光刻胶概念持续走强，截至发稿，苏大维格涨超10%、彤程新材和雅克科技涨停，安集科技、上海新阳、晶瑞股份、格林达等跟涨。

光刻胶材料市场增长具有潜力

据集微网，电子材料咨询公司TECHCET的数据预测，2021年光刻胶市场收入将增长6%以上，达到19.8亿美元，2025年将扩大至23.7亿美元。芯片供不应求的现状将继续推动光刻胶材料市场增长。

其中，受5nm以下先进逻辑制程和DRAM制造需求推动，EUV光刻胶营收今年将剧增90%达到5100万美元，产量与去年相比几乎翻番，从18kL增加至35kL，2020年~2025年营收复合年增长率达到53%。

KrF光刻胶市场则受3D NAND需求推动，今年营收和产量将增长约12%；I-line和G-line光刻胶今年也将增长2～3%。

南大光电ArF光刻胶两次通过客户认证

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，被广泛应用于90nm-14nm甚至7nm的高端芯片制造。目前全球的ArF光刻胶产品中，日本厂商占据了93%的市场份额，且由于ArF光刻胶自身技术壁垒高和保存时间短的特性，容易成为“卡脖子”的材料，国产化替代刻不容缓。

财信证券研报指出，ArF光刻胶两次通过客户认证，国产化大背景下公司成长空间巨大。南大光电成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，实现了国内ArF光刻胶从零到一的重大突破，公司目前已经建成25吨生产线(5吨干式和20吨湿式)，在光刻胶国产化的大趋势下，光刻胶业务将带动公司业绩迈入新的成长空间。

国产KrF光刻胶已有突破 上海新阳高端光刻胶通过客户验证

6月30日，上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告称，公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单，为公司的技术精进和市场拓展奠定了坚实基础。上海新阳预计于2022年实现KrF厚膜光刻胶的量产，并进一步研发ArF光刻胶，国产企业向高端光刻胶自主可控又迈进一步。

国内光刻胶市场的竞争格局不同于与国际市场

中银证券指出，因大陆晶圆厂的晶圆制造技术落后于国际市场，因而对ArFi、EUV等高端光刻胶的需求量较小，集中在G-line、I-line、KrF光刻胶；另外由于国际晶圆厂在技术上的保留而使得我国进口光刻胶落后国际市场1-2代技术，从而形成了国内光刻胶竞争格局是信越化学和TOK份额最大，JSR和陶氏份额很少。

光刻胶的国产化：国产品牌处于起步阶段。国内光刻胶布局主要有北京科华微电子、晶瑞股份(瑞红)、南大光电、上海新阳、容大感光等，其中：

(1)北京科华：6寸的G线、I线市场份额较高；8寸、12寸里面I-line、KrF都有突破，目前份额较小；

(2)晶瑞股份：子公司瑞红光刻胶产品已有几家6寸客户使用，2018年进入中芯国际天津工厂8寸线测试并获批量使用；

(3)南大光电：承担“ArF光刻胶产品的开发和产业化”02专项项目，预计2019年底在宁波建成一条光刻胶生产线，推进ArF光刻胶产业化；

(4)上海新阳：在已立项研发用于逻辑与模拟芯片ArF光刻胶基础上，增加用于存储器芯片的半导体厚膜光刻胶(KrF)的研发立项；

(5)江苏汉拓：布局E-BEAM材料；

(6)厦门恒坤：主攻DRAM市场，2018年成功导入IC大厂并批量供货。