晶合集成获得发明专利授权：“一种防护膜及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种防护膜及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202610312129.9，授权日为2026年6月30日。

专利摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种防护膜及其制备方法和应用；该防护膜由包括以下组分的原料制备而成：成膜剂5wt%~10wt%；氟解离剂0.05wt%~0.5wt%；络合剂0.1wt%~1wt%；抑制剂0.1wt%~1wt%；余量的溶剂；所述氟解离剂包括烷醇胺类化合物。与现有技术相比，本发明提供的防护膜由包括特定含量组分的原料制备而成，各组分在特定配比条件下实现整体较好的相互作用，形成的防护膜可以络合吸收Al表面F?，且可以物理隔绝水汽，从而有效避免Al表面被腐蚀；同时该防护膜不溶于水，不受水汽影响，可用于长时间的隔离保护。

今年以来晶合集成新获得专利授权268个，较去年同期增加了40.31%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了14.53亿元，同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目649次；财产线索方面有商标信息76条，专利信息1709条，著作权信息12条；此外企业还拥有行政许可27个。

数据来源：天眼查APP

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